高功率LD用金刚石铜散热基板

一,概要

半导体激光器与现有的激光光源相比,具有小型、高效率、长寿命等优异性能,在健康护理、传感、钣金加工等多个领域进行了实装。另外,从碳中和的观点来看关注度也很高,最近也在研究激光核聚变。在上述背景下,今后半导体激光器市场也有望增长,要求进一步的高输出化、光束质量提高等。为了提高性能,激光二极管(LD)自身的技术,以及为了有效地释放LD在振荡时产生的热,以及不产生因热引起的变形的散热基板也非常重要。在此介绍具有高散热且低热膨胀等优点,适合于高输出半导体激光器的散热基板的铜和金刚石的复合材料(Cu-Dia)。

二,特长

2-1,独特的高热传导材料

半导体激光器用途散热基板是LD在芯片的正下方使用焊料直接接合并搭载(图1)。在该散热基板上,虽然采用了高热传导材料的铜和钨的复合材料(Cu-W)或氮化铝(AlN),但是随着高输出化LD芯片发热量增加,需要散热性更高的材料,实践中,热传导率为Cu-W与AlN两倍以上的具有550W/(m.K)的Cu-Dia散热基板被产品化。图2示出了Cu-Dia热性能仿真结果。与传统Cu-W相比,热阻减少24%,LD的热应力降低42%,显示了Cu-Dia的有利性。

图1,LD散热基板的使用


Cu-W

Cu-Dia

平均热膨胀系数(ppm/K)

6.5

6.0

热导率(W/m.K)

205

550

热阻(KW)(dT)

1.30(dT=38.9K)

0.99(dT=29.6K)

LD所受热应力(MPa)

8.2

4.74

图2,热性能对比

2-2, 锐边加工

LD芯片配置在正下方的散热基板上,为了不妨碍激光出射且不产生热堵塞,需要锐边。含有柔软的铜和硬质的钻石Cu-Dia材料加工困难,采用独特的加工方法可以实现5µm以下的锐边(图3)

图3,Cu-Dia的边缘加工

2-3,金属化后品质稳定

LD为了使与芯片接合性良好,一般在散热基板表面进行金锡、金、铂、镍等金属薄膜成形(以下称为金属化),因此金属化后的热特性也变得重要,通过控制Cu-Dia中的微量元素,如图4所示,与以往产品相比,金属化后的热导率更稳定。

图4,金属化后热导率测量结果

三,结论

对于半导体激光器高输出且稳定的激光振荡器,Cu-Dia这样的高热导率散热基板变得重要。我公司可以根据市场需求,从原料控制到精密加工、金属化,我公司的Cu-Dia今后也有望为开发高性能光束质量的激光振荡器做出贡献。

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